Ⅰ 硅微粉貯存時間過長會發生什麼反應
普通硅微粉如果貯存時間太長包裝不擅可能會吸潮，水分增加（國標電子電工級硅微粉水分低於百分之零點一），這樣的硅微粉對電子和灌封膠生產有影響。
活性硅微粉根據國家標準保質期在6個月，時間長了會影響其質量。憎水性會降低。
如有硅微粉需要可聯系我們，我們公司將免費提供技術及小樣品支持。[email protected]
Ⅱ 山東悅能化工有限公司怎麼樣
山東悅能化工有限公司是2015-04-17注冊成立的有限責任公司(自然人投資或控股)，注冊地址位於利津縣濱海新區(刁口鄉金河二路以西、銀海五路以南)。
山東悅能化工有限公司的統一社會信用代碼/注冊號是913705223344613766，企業法人楊金亮，目前企業處於開業狀態。
山東悅能化工有限公司的經營范圍是：不帶有儲存設施的經營：甲烷、丙烷、乙烯、丙烯、異丁烯、環氧乙烷、四氫化硅、氯甲烷和二氯甲烷混合物、2-氯丙烯、3-氯丙烯、1，2-環氧丙烷、石腦油、苯、甲醇、乙醇[無水]、甲基叔丁基醚、煤焦油、苯乙烯[穩定的]、硅粉[非晶型的]、3-氯-1，2-環氧丙烷、二氯甲烷、苯胺、煤焦瀝青、氫氧化鈉、氫氧化鈉溶液[含量≥30%]、氫氧化鉀、甲醛溶液、氯化鋅(以上經營事項涉及法律法規需報批的，憑批准證書經營，僅限票據往來方式經營，經營場所內禁止存放)（有效期限以許可證為准）；化工產品（不含危險化學品及易燃易爆、易制毒品）銷售。（依法須經批準的項目，經相關部門批准後方可開展經營活動）。
通過愛企查查看山東悅能化工有限公司更多信息和資訊。
Ⅲ 國內外最新科技成果
天津威歐斯公司早在非典爆發之前就向專利審批部門遞交了隱形液體手套的可行性專利報告，充分顯示出威歐斯公司在科研領域的前瞻性眼光。之後爆發的非典疫情讓人們體會到生命的脆弱和健康的珍貴，人們的生活方式和衛生習慣隨之也被深刻地改變。人們對於健康的關注已經滲透到生活的每個細節，而與人們日常生活緊密相關的雙手的健康問題就尤其引人注目。天津威歐斯公司及時抓住了這個千載難逢的市場商機，以創新性手部衛生新概念，匯集國內外最新生物科技成果，傾力推出具有良好抗菌潤膚功能的隱形液體手套。 隱形液體手套是天津威歐斯公司採用 國內外最新生物科技成果 經過多年潛心研製的一款具有革命性意義的綠色環保護膚用品，並榮獲國家發明專利（ ZL03150232.6,ZL200510133674.X,ZL200710059270.X ）。本產品由採用現代生物技術從海洋生物中提取的天然高分子活性材料製成，該活性材料也是至今為止人類發現的唯一一類具有抗菌抑菌功能的天然高分子材料。此外，本產品還富含多種天然成分，如維他命 E ， TCC 抗菌劑等，可持續、安全、穩定的殺滅各種接觸性病菌、真菌、支原體、傳染病和殘留物，殺菌率高達 99.98% ，明顯改善人體皮膚本身的抗菌力，並提高自身免疫力，同時本產品還能夠促進細胞的新陳代謝，深層滋潤皮膚，持久有效的去除皮膚表層附著的油污垢。因此，本產品即可作為日常生活的化妝品用，也可用作醫療保健用品。使用時，本產品可在人體表面形成雙層可生物降解的液體保護膜，可抵禦多種有害物質及污垢的侵襲，抑菌去油有效時間長達 10-24 小時。使用結束後，用水沖洗，即可「脫」除。既方便快捷，又綠色環保。 隱形液體手套廣泛應用於機械製造、交通運輸、煤礦、石油化工、油漆、機械維修、金融、電訊、學校、網吧、餐飲等行業的從業人員，無論是在人們上學、上班、娛樂、點鈔之前或工作、商旅之中，如果使用了本產品，都可達到消毒、殺菌等防護作用。 隱形液體手套不僅能除油護手，有效抗菌、抑菌、抵抗病毒入侵，而且具有良好的氣體通透性，使用中不影響手部皮膚呼吸，手感舒適順暢。本產品還具有極佳的肌膚親和性，塗抹在手部後， 1 分鍾即可自然風干成膜，成膜後緊貼手部皮膚，不影響手部靈活，沒有異樣感覺，工作、學習均不受影響；獨特的皮膚修復功能，能促進手部皮膚細微創傷的自我修復，並能夠阻擋紫外線對皮膚的傷害。 隱形液體手套使用簡便，使用時擠出 1-2ml 均勻塗抹在雙手上， 1 分鍾後自然風干即可進行工作。工作之後，用清水洗手即可。需要特別提示的是：使用中接觸水後需重新「穿戴」，以保持效果
Ⅳ 混合物的成分中有危險化學品的貨物算不算危險品例如：一液型環氧樹脂膠粘劑，含1.8%硅粉（非結晶）
這要看危險化學品的含量高低，
太高當然就屬於危化品了，使用
和儲存，出售，運輸等環節都要
按規定執行
Ⅳ 單晶硅，多晶硅生產流程。
其實現在多晶硅生產方法有好幾種的，給你附一張最主流的改良西門法生產多晶硅的流程（推薦一個論壇：海川化工論壇 http://bbs.hcbbs.com）： 1 、 氫氣制備與凈化工序
在電解槽內經電解脫鹽水製得氫氣。電解製得的氫氣經過冷卻、分離液體後，進入除氧器，在催化劑的作用下，氫氣中的微量氧氣與氫氣反應生成水而被除去。除氧後的氫氣通過一組吸附乾燥器而被乾燥。凈化乾燥後的氫氣送入氫氣貯罐，然後送往氯化氫合成、三氯氫硅氫還原、四氯化硅氫化工序。
電解製得的氧氣經冷卻、分離液體後，送入氧氣貯罐。出氧氣貯罐的氧氣送去裝瓶。
氣液分離器排放廢吸附劑、氫氣脫氧器有廢脫氧催化劑排放、乾燥器有廢吸附劑排放，均供貨商回收再利用。
2、氯化氫合成工序
從氫氣制備與凈化工序來的氫氣和從合成氣干法分離工序返回的循環氫氣分別進入本工序氫氣緩沖罐並在罐內混合。出氫氣緩沖罐的氫氣引入氯化氫合成爐底部的燃燒槍。從液氯汽化工序來的氯氣經氯氣緩沖罐，也引入氯化氫合成爐的底部的燃燒槍。氫氣與氯氣的混合氣體在燃燒槍出口被點燃，經燃燒反應生成氯化氫氣體。出合成爐的氯化氫氣體流經空氣冷卻器、水冷卻器、深冷卻器、霧沫分離器後，被送往三氯氫硅合成工序。
為保證安全，本裝置設置有一套主要由兩台氯化氫降膜吸收器和兩套鹽酸循環槽、鹽酸循環泵組成的氯化氫氣體吸收系統，可用水吸收因裝置負荷調整或緊急泄放而排出的氯化氫氣體。該系統保持連續運轉，可隨時接收並吸收裝置排出的氯化氫氣體。
為保證安全，本工序設置一套主要由廢氣處理塔、鹼液循環槽、鹼液循環泵和鹼液循環冷卻器組成的含氯廢氣處理系統。必要時，氯氣緩沖罐及管道內的氯氣可以送入廢氣處理塔內，用氫氧化鈉水溶液洗滌除去。該廢氣處理系統保持連續運轉，以保證可以隨時接收並處理含氯氣體。
3、三氯氫硅合成工序
原料硅粉經吊運，通過硅粉下料斗而被卸入硅粉接收料斗。硅粉從接收料斗放入下方的中間料斗，經用熱氯化氫氣置換料斗內的氣體並升壓至與下方料斗壓力平衡後，硅粉被放入下方的硅粉供應料斗。供應料斗內的硅粉用安裝於料斗底部的星型供料機送入三氯氫硅合成爐進料管。
從氯化氫合成工序來的氯化氫氣，與從循環氯化氫緩沖罐送來的循環氯化氫氣混合後，引入三氯氫硅合成爐進料管，將從硅粉供應料斗供入管內的硅粉挾帶並輸送，從底部進入三氯氫硅合成爐。
在三氯氫硅合成爐內，硅粉與氯化氫氣體形成沸騰床並發生反應，生成三氯氫硅，同時生成四氯化硅、二氯二氫硅、金屬氯化物、聚氯硅烷、氫氣等產物，此混合氣體被稱作三氯氫硅合成氣。反應大量放熱。合成爐外壁設置有水夾套，通過夾套內水帶走熱量維持爐壁的溫度。
出合成爐頂部挾帶有硅粉的合成氣，經三級旋風除塵器組成的干法除塵系統除去部分硅粉後，送入濕法除塵系統，被四氯化硅液體洗滌，氣體中的部分細小硅塵被洗下；洗滌同時，通入濕氫氣與氣體接觸，氣體所含部分金屬氧化物發生水解而被除去。除去了硅粉而被凈化的混合氣體送往合成氣干法分離工序。
4、合成氣干法分離工序
從三氯氫硅氫合成工序來的合成氣在此工序被分離成氯硅烷液體、氫氣和氯化氫氣體，分別循環回裝置使用。
三氯氫硅合成氣流經混合氣緩沖罐，然後進入噴淋洗滌塔，被塔頂流下的低溫氯硅烷液體洗滌。氣體中的大部份氯硅烷被冷凝並混入洗滌液中。出塔底的氯硅烷用泵增壓，大部分經冷凍降溫後循環回塔頂用於氣體的洗滌，多餘部份的氯硅烷送入氯化氫解析塔。
出噴淋洗滌塔塔頂除去了大部分氯硅烷的氣體，用混合氣壓縮機壓縮並經冷凍降溫後，送入氯化氫吸收塔，被從氯化氫解析塔底部送來的經冷凍降溫的氯硅烷液體洗滌，氣體中絕大部分的氯化氫被氯硅烷吸收，氣體中殘留的大部分氯硅烷也被洗滌冷凝下來。出塔頂的氣體為含有微量氯化氫和氯硅烷的氫氣，經一組變溫變壓吸附器進一步除去氯化氫和氯硅烷後，得到高純度的氫氣。氫氣流經氫氣緩沖罐，然後返回氯化氫合成工序參與合成氯化氫的反應。吸附器再生廢氣含有氫氣、氯化氫和氯硅烷，送往廢氣處理工序進行處理。
出氯化氫吸收塔底溶解有氯化氫氣體的氯硅烷經加熱後，與從噴淋洗滌塔底來的多餘的氯硅烷匯合，然後送入氯化氫解析塔中部，通過減壓蒸餾操作，在塔頂得到提純的氯化氫氣體。出塔氯化氫氣體流經氯化氫緩沖罐，然後送至設置於三氯氫硅合成工序的循環氯化氫緩沖罐；塔底除去了氯化氫而得到再生的氯硅烷液體，大部分經冷卻、冷凍降溫後，送回氯化氫吸收塔用作吸收劑，多餘的氯硅烷液體（即從三氯氫硅合成氣中分離出的氯硅烷），經冷卻後送往氯硅烷貯存工序的原料氯硅烷貯槽。
5、氯硅烷分離提純工序
在三氯氫硅合成工序生成，經合成氣干法分離工序分離出來的氯硅烷液體送入氯硅烷貯存工序的原料氯硅烷貯槽；在三氯氫硅還原工序生成，經還原尾氣干法分離工序分離出來的氯硅烷液體送入氯硅烷貯存工序的還原氯硅烷貯槽；在四氯化硅氫化工序生成，經氫化氣干法分離工序分離出來的氯硅烷液體送入氯硅烷貯存工序的氫化氯硅烷貯槽。原料氯硅烷液體、還原氯硅烷液體和氫化氯硅烷液體分別用泵抽出，送入氯硅烷分離提純工序的不同精餾塔中。
6、三氯氫硅氫還原工序
經氯硅烷分離提純工序精製的三氯氫硅，送入本工序的三氯氫硅汽化器，被熱水加熱汽化；從還原尾氣干法分離工序返回的循環氫氣流經氫氣緩沖罐後，也通入汽化器內，與三氯氫硅蒸汽形成一定比例的混合氣體。
從三氯氫硅汽化器來的三氯氫硅與氫氣的混合氣體，送入還原爐內。在還原爐內通電的熾熱硅芯/硅棒的表面，三氯氫硅發生氫還原反應，生成硅沉積下來，使硅芯/硅棒的直徑逐漸變大，直至達到規定的尺寸。氫還原反應同時生成二氯二氫硅、四氯化硅、氯化氫和氫氣，與未反應的三氯氫硅和氫氣一起送出還原爐，經還原尾氣冷卻器用循環冷卻水冷卻後，直接送往還原尾氣干法分離工序。
還原爐爐筒夾套通入熱水，以移除爐內熾熱硅芯向爐筒內壁輻射的熱量，維持爐筒內壁的溫度。出爐筒夾套的高溫熱水送往熱能回收工序，經廢熱鍋爐生產水蒸汽而降溫後，循環回本工序各還原爐夾套使用。
還原爐在裝好硅芯後，開車前先用水力射流式真空泵抽真空，再用氮氣置換爐內空氣，再用氫氣置換爐內氮氣（氮氣排空），然後加熱運行，因此開車階段要向環境空氣中排放氮氣，和少量的真空泵用水（可作為清潔下水排放）；在停爐開爐階段（約5－7天1次），先用氫氣將還原爐內含有氯硅烷、氯化氫、氫氣的混合氣體壓入還原尾氣干法回收系統進行回收，然後用氮氣置換後排空，取出多晶硅產品、移出廢石墨電極、視情況進行爐內超純水洗滌，因此停爐階段將產生氮氣、廢石墨和清洗廢水。氮氣是無害氣體，因此正常情況下還原爐開、停車階段無有害氣體排放。廢石墨由原生產廠回收，清洗廢水送項目含氯化物酸鹼廢水處理系統處理。
7 、還原尾氣干法分離工序
從三氯氫硅氫還原工序來的還原尾氣經此工序被分離成氯硅烷液體、氫氣和氯化氫氣體，分別循環回裝置使用。
還原尾氣干法分離的原理和流程與三氯氫硅合成氣干法分離工序十分類似。從變溫變壓吸附器出口得到的高純度的氫氣，流經氫氣緩沖罐後，大部分返回三氯氫硅氫還原工序參與製取多晶硅的反應，多餘的氫氣送往四氯化硅氫化工序參與四氯化硅的氫化反應；吸附器再生廢氣送往廢氣處理工序進行處理；從氯化氫解析塔頂部得到提純的氯化氫氣體，送往放置於三氯氫硅合成工序的循環氯化氫緩沖罐；從氯化氫解析塔底部引出的多餘的氯硅烷液體（即從三氯氫硅氫還原尾氣中分離出的氯硅烷），送入氯硅烷貯存工序的還原氯硅烷貯槽。
8、四氯化硅氫化工序
經氯硅烷分離提純工序精製的四氯化硅，送入本工序的四氯化硅汽化器，被熱水加熱汽化。從氫氣制備與凈化工序送來的氫氣和從還原尾氣干法分離工序來的多餘氫氣在氫氣緩沖罐混合後，也通入汽化器內，與四氯化硅蒸汽形成一定比例的混合氣體。
從四氯化硅汽化器來的四氯化硅與氫氣的混合氣體，送入氫化爐內。在氫化爐內通電的熾熱電極表面附近，發生四氯化硅的氫化反應，生成三氯氫硅，同時生成氯化氫。出氫化爐的含有三氯氫硅、氯化氫和未反應的四氯化硅、氫氣的混合氣體，送往氫化氣干法分離工序。
氫化爐的爐筒夾套通入熱水，以移除爐內熾熱電極向爐筒內壁輻射的熱量，維持爐筒內壁的溫度。出爐筒夾套的高溫熱水送往熱能回收工序，經廢熱鍋爐生產水蒸汽而降溫後，循環回本工序各氫化爐夾套使用。
9、氫化氣干法分離工序
從四氯化硅氫化工序來的氫化氣經此工序被分離成氯硅烷液體、氫氣和氯化氫氣體，分別循環回裝置使用。
氫化氣干法分離的原理和流程與三氯氫硅合成氣干法分離工序十分類似。從變溫變壓吸附器出口得到的高純度氫氣，流經氫氣緩沖罐後，返回四氯化硅氫化工序參與四氯化硅的氫化反應；吸附再生的廢氣送往廢氣處理工序進行處理；從氯化氫解析塔頂部得到提純的氯化氫氣體，送往放置於三氯氫硅合成工序的循環氯化氫緩沖罐；從氯化氫解析塔底部引出的多餘的氯硅烷液體（即從氫化氣中分離出的氯硅烷），送入氯硅烷貯存工序的氫化氯硅烷貯槽。
10、氯硅烷貯存工序
本工序設置以下貯槽：100m3氯硅烷貯槽、100m3工業級三氯氫硅貯槽、100m3工業級四氯化硅貯槽、100 m3氯硅烷緊急排放槽等。
從合成氣干法分離工序、還原尾氣干法分離工序、氫化氣干法分離工序分離得到的氯硅烷液體，分別送入原料、還原、氫化氯硅烷貯槽，然後氯硅烷液體分別作為原料送至氯硅烷分離提純工序的不同精餾塔。
在氯硅烷分離提純工序3級精餾塔頂部得到的三氯氫硅、二氯二氫硅的混合液體，在4、5級精餾塔底得到的三氯氫硅液體，及在6、8、10級精餾塔底得到的三氯氫硅液體，送至工業級三氯氫硅貯槽，液體在槽內混合後作為工業級三氯氫硅產品外售。
11、硅芯制備工序
採用區熔爐拉制與切割並用的技術，加工制備還原爐初始生產時需安裝於爐內的導電硅芯。硅芯制備過程中，需要用氫氟酸和硝酸對硅芯進行腐蝕處理，再用超純水洗凈硅芯，然後對硅芯進行乾燥。酸腐蝕處理過程中會有氟化氫和氮氧化物氣體逸出至空氣中，故用風機通過罩於酸腐蝕處理槽上方的風罩抽吸含氟化氫和氮氧化物的空氣，然後將該氣體送往廢氣處理裝置進行處理，達標排放。
12、產品整理工序
在還原爐內製得的多晶硅棒被從爐內取下，切斷、破碎成塊狀的多晶硅。用氫氟酸和硝酸對塊狀多晶硅進行腐蝕處理，再用超純水洗凈多晶硅塊，然後對多晶硅塊進行乾燥。酸腐蝕處理過程中會有氟化氫和氮氧化物氣體逸出至空氣中，故用風機通過罩於酸腐蝕處理槽上方的風罩抽吸含氟化氫和氮氧化物的空氣，然後將該氣體送往廢氣處理裝置進行處理，達標排放。經檢測達到規定的質量指標的塊狀多晶硅產品送去包裝。
13、廢氣及殘液處理工序
1、含氯化氫工藝廢氣凈化
SiHCl3提純工序排放的廢氣、還原爐開停車、事故排放廢氣、氯硅烷及氯化氫儲存工序儲罐安全泄放氣、CDI吸附廢氣全部用管道送入廢氣淋洗塔洗滌。
廢氣經淋洗塔用10%NaOH連續洗滌後,出塔底洗滌液用泵送入工藝廢料處理工序，尾氣經15m高度排氣筒排放。
2、殘液處理
在精餾塔中排出的、主要含有四氯化硅和聚氯硅烷化合物的釜地殘液以及裝置停車放凈的氯硅烷殘液液體送到本工序加以處理。
需要處理的液體被送入殘液收集槽。然後用氮氣將液體壓出，送入殘液淋洗塔洗滌。採用10%NaOH鹼液進行處置。廢液中的氯硅烷與NaOH和水發生反應而被轉化成無害的物質（處理原理同含氯化氫、氯硅烷廢氣處理）。
3、酸性廢氣
硅芯制備和產品整理工序產生的酸性廢氣，經集氣罩抽吸至廢氣處理系統。酸性廢氣經噴淋塔用10%石灰乳洗滌除去氣體中的含氟廢氣，同時在洗滌液中加入還原劑氨，將絕大部分NOx還原為N2和H2O。洗滌後氣體經除濕後，再通過固體吸附法（以非貴重金屬為催化劑）將氣體中剩餘NOx用SDG吸附劑吸附，然後經20m高度排氣筒排放。
14、廢硅粉處理
來自原料硅粉加料除塵器、三氯氫硅合成車間旋風除塵器和合成反應器排放出來的硅粉，通過廢渣運料槽運送到廢渣漏斗中，進入到帶攪拌器的酸洗管內，在通過31%的鹽酸對廢硅粉（塵）脫鹼，並溶解廢硅中的鋁、鐵和鈣等雜質。洗滌完成後，經壓濾機過濾，廢渣送乾燥機乾燥，乾燥後的硅粉返回到三氯氫硅合成循環使用，廢液匯入廢氣殘液處理系統廢水一並處理。
從酸洗罐和濾液罐排放出來的含HCl廢氣送往廢氣殘液處理系統進行處理。
15 、工藝廢料處理工序
1、Ⅰ類廢液處理
來自氯化氫合成工序負荷調整、事故泄放廢氣處理廢液、停爐清洗廢水、廢氣殘液處理工序洗滌塔洗滌液和廢硅粉處理的含酸廢液在此工序進行混合、中和、沉清後，經過壓濾機過濾。濾渣（主要為SiO2）送水泥廠生產水泥。沉清液和濾液主要為為高濃度含鹽廢水，含NaCl 200 g/L以上，該部分水在工藝操作與處理中不引入鈣鎂離子和硫酸根離子，水質滿足氯鹼生產要求，因此含鹽廢水管道輸送至
2、Ⅱ類廢液處理
來自硅芯制備工序和產品整理工序的廢氫氟酸和廢硝酸及酸洗廢水，用10%石灰乳液中和、沉清後，經過壓濾機過濾，濾渣（主要為CaF2）送水泥廠生產水泥。沉清液和濾液主要為硝酸鈣溶液，經蒸發、濃縮後，做副產品外售。蒸發冷凝液回用配置鹼液。
冶金法生產多晶硅:單晶硅生產工藝流程高純多晶硅→直拉法或懸浮區熔法→棒狀單晶硅→切、磨、拋和潔凈封裝工藝→單晶矽片.